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磁控濺射生產(chǎn)線

產(chǎn)品特點

技術參數(shù)

設備型號ZCJ-300（600、1200）
極限真空8×10-5Pa
腔室功能分類進、出樣室（1000Pa）
過渡室（0.5Pa）
緩沖室（壓力及氣氛匹配濺射室）
濺射室（0.5Pa）
濺射靶類型矩形平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)靶

技術參數(shù)

樣品幅寬300、600、1200mm
常用靶材ITO、NiO2、Cu
靶基距80~120mm
鍍膜節(jié)拍≥60s
連續(xù)運行時間≥200h
片內(nèi)膜厚均勻性≤±3%
片間膜厚均勻性≤±3%
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