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技術參數(shù) |
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設備型號 | ZCJ-300(600、1200) |
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極限真空 | 8×10-5Pa |
腔室功能分類 | 進、出樣室(1000Pa) |
過渡室(0.5Pa) |
緩沖室(壓力及氣氛匹配濺射室) |
濺射室(0.5Pa) |
濺射靶類型 | 矩形平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)靶 |
技術參數(shù) |
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樣品幅寬 | 300、600、1200mm |
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常用靶材 | ITO、NiO2、Cu |
靶基距 | 80~120mm |
鍍膜節(jié)拍 | ≥60s |
連續(xù)運行時間 | ≥200h |
片內(nèi)膜厚均勻性 | ≤±3% |
片間膜厚均勻性 | ≤±3% |
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